TS2000-DP
主要特征
1、专为大功率设计的Chuck，高达10 kV/600 A的大功率生产应用
2、高温和非高温Chuck，适应常温至300℃的工作环境（SE系列可以提供低温Chuck，温度范围-60℃-300℃）
3、支持薄片wafer
4、支持taiko wafer
5、Platen ArcShield™，专业防电弧设计
6、MPI’s SENTIO® 测试软件
7、EMI屏蔽暗箱
8、应用：DC-IV、DC-CV、P-IV测试
